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　　PECVD 即等離子體增強化學氣相澱積設備，是利用高頻電源輝光放電産生奇米影视一奇米首页色888,操黑丝MM,韩国的情色片名字等離子體對化學氣相沈積過程施加影響的技術。電子和離子的密度達 109～1012個/cm3，平均電子能量可達1～10ev。由于等離子體存在，促進氣體分子的分解、化合、激發和電離，促進反奇米影视一奇米首页色888,操黑丝MM,韩国的情色片名字應活性基團的生成，從而降低沈積溫度。PECVD 在 200℃～500℃範圍內成膜，遠小于其它 CVD 在 700℃～950℃範圍內成膜。由于在氨氣條件下，提高了活性基因的擴散能力，從而提高薄奇米影视一奇米首页色888,操黑丝MM,韩国的情色片名字膜的生長速度和均勻性。在沈積過程中，由于大量的氫存在，起到表面鈍化作用。詳情1

　　1、産能大，單片成本少
　　采用Ф450mm管徑的反應腔，具有産能大、單片成本少、工藝性能佳的優點，單台4管設備156矽片的産能可達18奇米影视一奇米首页色888,操黑丝MM,韩国的情色片名字00片/小時（每管308片/批），同時兼容240片/批、280片/批的産能(整機産能相應按比例下降)。
　　2、自動化程度高
　　全自動上下舟系統，一鍵全自動工藝，自動化奇米影视一奇米首页色888,操黑丝MM,韩国的情色片名字程度的提高增加了産品的重複性和一致性。
　　3、高精度溫度控制
　　采用自主研發、設計、制造的爐體，高精度五段奇米影视一奇米首页色888,操黑丝MM,韩国的情色片名字雙回路溫度控制系統，回溫速度快，控制精度均處于國內領先地位。
　　4、業內領先的新型壓力控制系統
　　采用自主新研發的新型全自動精密閉環壓力控奇米影视一奇米首页色888,操黑丝MM,韩国的情色片名字制技術，壓力控制精度以及實時響應能力大幅提高30%，真空系統更加高效、穩定性提高，反應腔氣氛更加均勻。

　　1、成膜種類：二氧化矽、氮化矽；
　　2、裝片尺寸及裝片量： 156x156mm方片（308片/批）；
　　3、成膜均勻性片內≤±3% 片間≤±3% 批間≤±2%（膜厚80nm左右，折射率大于2.04）；
　　4、爐膛有效內徑： Ф475mm (石英管外徑Ф450mm)；
　　5、溫度控制範圍： 300～600℃；
　　6、恒溫區長度及精度： ±2℃/1450mm（500℃）；
　　7、升溫時間： RT→450℃≤40min；
　　8、系統極限真空： 3Pa；
　　9、工作壓力範圍和精度： 50 Pa～300±5Pa（閉環控制）；
　　10、氣密性：漏率≤1×10-7pa.m3/s。